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在形状膜厚的测量方法中，触针法和多次反射干涉法最常用，由它们所确定的膜厚，确实是由表面的形状所决定。在质量膜厚测定中，天平法最常用，但难以实现自动测试，为此多采用石英晶体振荡法代替。一般说来，只要厚度随薄膜物性变化，都能用于物性厚度的测量。并且由于这种方法的灵敏度高、测试容易和比较直观等，所以电物性和电光性的膜厚测量方法应用最广泛。
上述的测量方法，一些方法只能用于薄膜形成以后的测量，而另一些方法则可在薄膜形成的实际过程中监控其膜厚的变化。通过测量单位时间内薄膜的生长厚度，就能用这些监控膜厚的方法来测定薄膜的淀积速率。
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